1, Aspect: Argent lustre en métal blanc
2, Pureté: W ≥ 99,95%
3, Densité: pas moins de 19.1g/cm3
4, l'état d'alimentation: surface de polissage, traitement de la machine CNC
5, Normes de qualité: GB / T 3875-2006 (plaque de tungstène)
| Thickness | Width | Length | Parallelism | Verticality | Surface finish | |
| Tungsten target | 8.0~16.0 | 10~450 | 10~500 | <0.05 | <2o | <Ra0.8 |
| 3.0~8.0 | 10~450 | 10~800 | <0.05 | <2o | <Ra0.8 | |
| 1.0~3.0 | 10~450 | 10~1200 | <0.05 | <2o | <Ra0.8 |
Cible de tungstène est utilisé principalement dans le plasma de pulvérisation de l'industrie.Avec le champ électrique, électronique est entré en collision avec l'atome d'argon lorsque l'avion pour le substrat, puis atomes d'argon et cables électriques ont été ionisé.Des circuits électriques à piloter le substrat tout en atomes d'argon accélérer à bombarder la cible, les atomes ou les molécules neutres) dans le dép?t sur le substrat cible et devenir le revêtement.
Depuis le tungstène résistant à haute température et à la corrosion, les cibles de tungstène sont largement utilisés dans l'industrie chimique de pétrole, l'aviation, la fabrication de machines, et de l'électronique des semi-conducteurs et ainsi de suite.
Alliage Bango peut fournir cible en tungstène qui a fait avec de la poudre de tungstène dont la pureté est de 99,95%. Produits de haute qualité ont été réalisés après des décennies de procédures telles que le pressage, frittage, le laminage, de découpe et de meulage de surface. Super cible de pulvérisation (seule portée lourd pour 100kg) est disponible à l'heure actuelle.
Matériau de tungstène
Cible de titane
Cible Nickel
Cible de niobium
Cible de molybdène
Cible de tantale
Cible de zirconium
